5% DODATKOWEGO ZNIŻKI na produkty wyprzedażowe! kod: CYBER5QMB - Do: 8/12! | CYBER WEEK - ZOBACZ PRODUKTY

7% DODATKOWEJ ZNIŻKI na produkty w magazynie! | KOD: 7INSTOCKB - ZOBACZ PRODUKTY

Krem po peelingu Instytut BCN Epithel 50 ml

-27%
Cena promocyjna 134,73 zł bez VAT 109,54 zł Normalna cena 184,66 zł
Ogólne bezpieczeństwo produktu

Informacje o producencie:

Nazwa lub firma: Oczekuje na aktualizację
E-mail: Oczekuje na aktualizację
Adres pocztowy: Oczekuje na aktualizację
Miasto: Oczekuje na aktualizację
Kraj: Oczekuje na aktualizację

Informacje o osobie odpowiedzialnej:

Nazwa lub firma: Oczekuje na aktualizację
E-mail: Oczekuje na aktualizację
Adres pocztowy: Oczekuje na aktualizację
Miasto: Oczekuje na aktualizację
Kraj: Oczekuje na aktualizację

Ostrzeżenia i informacje o bezpieczeństwie produktu:

Otwórz dokument

W magazynie, dostawa 4-5 dni
Bezpieczne metody płatności:
Ref: 285-8080

Nowy krem po peelingu BCN Epithel o właściwościach łagodzących, przeciwzapalnych, nawilżających, antyoksydacyjnych i leczniczych, które wspomagają naturalny proces reepitelializacji skóry.

Opis

Krem BCN Epithel szczególnie polecany po peelingach chemicznych, laserowych lub innych ściernych zabiegach kosmetycznych. Działa kojąco na skórę, działa przeciwzapalnie i antyoksydacyjnie, ogranicza transepidermalną utratę wody i zwalcza wolne rodniki.

Aby uzyskać optymalne rezultaty, BCN Epithel jest niezbędnym uzupełnieniem kosmetycznym profesjonalnego leczenia medyczno-estetycznego.

Nieruchomości:

  • Koi skórę i działa przeciwzapalnie.
  • Wspomaga tworzenie zdrowej tkanki.
  • Ułatwia wchłanianie wilgoci w skórze.
  • Wzmacnia funkcję barierową skóry, chroniąc jej równowagę lipidową.
  • Zmniejsza transepidermalną utratę wody.
  • Stymuluje syntezę kolagenu.
  • Posiada właściwości antyoksydacyjne i zwalcza wolne rodniki.

Prezentacja:

  • Bezpowietrzny 50ml.

({{ review }})
Copyright 2004-2024 | Quirumed S.L.U. | CIF:B97267405 | Firma wpisana do Rejestru Handlowego w Walencji, Hiszpania: Tom 7319, Księga 4620, Sekcja 8º, Arkusz 91, Strona V-86337 | RII-AEE: 5331